Laboratory Mini Dual-head Magnetron Plasma Vacuum Sputtering Machine with two sputtering gun

1.220VAC 50/60Hz, single phase

2.2000W  (including pump)

1.Two 2" Magnetron Sputtering  Heads with water cooling jackets are included  

One is connected to RF power supply for no-conductive materials  

Another is connected to DC sputtering power source for coating metallic materials

5.Head Water Cooling: 10ml/min water flow required, and one 16ml/min digitally 

controlled recirculating water chiller is included for cooling both magnetron sputtering 

heads

6.Customized coater: Two DC head without, RF sputtering,  RF head without 

DC sputering,3 RF head are available upon request

High speed turbo vacuum pump system is directly installed on the vacuum chamber

 for max. vacuum level 

Heavy duty dual stage mechanical pump is connected to turbo pump for faster 

pump speed

Mobile pump station is included and the compact sputtering coater can be put on

top of station

One Precision quartz thickness sensor is built into the chamber to monitor coating 

thickness with accuracy 0.10 Å  

In order to remove oxygen from the chamber,  suggest you use 5% Hytrogen + 95 % 

Nitrogen to clan chamber 2-3 times, which can reduce oxygen to below 10 ppm